光罩和光刻的区别（光罩）

本篇文章给大家谈谈光罩，以及光罩和光刻的区别对应的知识点，希望对各位有所帮助，不要忘了收藏本站喔。

本文目录一览：

• 1、国内有几家光罩厂
• 2、集成电路的光刻和光罩是同一个意思吗？
• 3、何谓光罩
• 4、光罩是干什么的
• 5、望远镜光罩是什么，求扫盲

国内有几家光罩厂

一家。合肥丰创光罩有限公司。

光罩：业内又称光掩模版、掩膜版，英文名称 MASK 或 PHOTOMASK），材质：石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为：曝光，显影，去感光胶，最后应用于光蚀刻。

集成电路的光刻和光罩是同一个意思吗？

光罩（mask）只是一块上面画有图形的玻璃。而光刻是一种工艺，是指用光来进行刻蚀。

何谓光罩

参见：

光罩制作流程

首页 半导体/光电黄光设备 光罩 光罩制作流程

Design Rules for DXF Format

Basics:

送来的图档请包含以下资讯：

标示最小线宽(CD)及位置

说明或标示Clear / Dark

图形为Chrome DOWN或UP

图面位於光罩中心或偏心量

光罩名称(包含Device Name及Layer Name)若不指定， 则以档名及图层名称命名

Reminding ( 注意事项 )

以网路传档，最好先压缩以避免图档出错。

图形不能放在图层”0”。

图层命名不能用中文或特殊字元。

图层命名最长为8个字元。

图面单位需统一, 并告知单位为何 ?

必须为Pline、Circle或Text。

可用Pedit将复杂的形状连起来形成Pline。

最好使用无线宽的pline。

每一个图形最多只能有128,000个顶点。

图形本身不能交错。

不能有单独的线或点存在。

两个图形不能共用边界。

内圈图形必须完全被外圈图形包围。

有外包内的情形要切开，或者分成不同的图层。

清除所有不必要的图层、Block，以减少档案大小。

不同的光罩放在不同的图层。

图块(BLOCK)与图层名字不能相同。

不能从别的档案或图层插入图块。

不能使用、缩放(scale)或镜射(mirror) block。

旋转BLOCK必须为90°的整数倍。

若需使用有线宽的pline，同一条线线宽必须一致。

不能用Spline。

有线宽的pline不能封闭。

Text必须为标准形式(不能斜体)，只能用英文字母(大小写皆可)、阿拉伯数字、空白以及键盘上所有的符号。

Text最好放在不同图层。

Meet the Customer Requirement

Data Preparation

Mask Order Form

Data Format

Photomasks Orientation and Tone

Photomasks Orientation and Tone

Sometimes there will more than layer for a mask. You should do logical operations on structures from different layers.

Currently the operations CUT, OR and XOR are supported.

Design Rules for DXF(1)

DXF format is not WYSIWYG. One should be carefully to process DXF file.

All the entities must be “Closed” PLINE. (Fig. 1) .

Entity itself can not cross. (Fig. 2)

Design Rules for DXF(2) - Island

Method 1:

Use different layer for entity inside another

entity. (Fig. 3)

Method 2:

Draw two separated entity and connect

together (Fig. 4)

Method 3:

Draw into interior of the outer polygon and

out again via the same path. (Fig. 5)

光罩是干什么的

光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像复制至相片上。

业内又称光掩模版、掩膜版，材质为石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来。

在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为：曝光、显影、去感光胶，最后应用于光蚀刻。

光罩为什么这么贵？

随着半导体晶圆制程技术的飞速发展，半导体制造厂持续遵循摩尔定律，不断挑战更先进的制程。而谈到先进制程，很多芯片设计公司的第一反应都是光罩很贵。

动辄几十万到百万美金级别的光罩费用，是怎么来的，这样的费用合理吗？ 在解答这个问题之前，我们来看看什么是光罩，以及光罩是怎么制作的。

望远镜光罩是什么，求扫盲

光罩是套在物镜前的常用附件，有多种材质。它的作用有以下几点：

1.能防止非成象光的进入，避免雾霭。

2.可以避免周围的散射光进入镜头。

3.在夜间观察或者星空摄影时，可以避免周围的干扰光进入镜头。

4.可以防止对镜头的意外损伤，也可以避免手指误触镜头表面，还能在某种程度上为镜头遮挡风沙、雨雪。

光罩的介绍就聊到这里吧，感谢你花时间阅读本站内容，更多关于光罩和光刻的区别、光罩的信息别忘了在本站进行查找喔。